?半導體行業(yè)常德廢氣處理工藝

　　?半導體行業(yè)廢氣處理工藝：

?

依據(jù)生產(chǎn)特征和技術標準，考慮到安全系數(shù)難題，一般建議使用活性碳吸附脫附催化燃燒裝置工藝，廢氣經(jīng)活性碳吸附脫附催化燃燒裝置處理后，使廢氣里的VOC氧化分解變成無害CO2和H2O，終達到環(huán)保標準。

活性碳吸附脫附催化燃燒裝置工藝流程是運用活性碳吸咐廢氣里的VOC，當活性碳吸咐飽和后，引進熱風開展持續(xù)高溫反吹脫附，脫附出的高濃度精煉廢氣開展催化燃燒裝置解決，終被溶解。根據(jù)吸咐精煉方式，再加上運用催化氧化技術性去掉有機污染物。再通過調節(jié)環(huán)境溫度，留置時間，擾流廢氣在燃燒室內轉化為二氧化碳和水氣，高效率提升了有機物去除率，標準為環(huán)保節(jié)能平穩(wěn)達到環(huán)保標準。

實際還需要根據(jù)客戶本身具體情況選擇合適半導體行業(yè)的廢氣處理設備解決方法，保證因地制宜。一般給予量身定做符合企業(yè)自身實惠解決方法。降價投資成本。

半導體行業(yè)廢氣處理設備特性：

1、催化燃燒法，在工業(yè)上用主要是解決高濃度VOCs的廢氣，改方式的凈化高，無污染，控制利便，安全系數(shù)好其體積小。

2、安全性設施齊全:防火除塵器、排氣孔、過熱報警等防護設施。

3、余熱回收利用:余熱可回到干躁路徑開展干躁，降低原干躁路徑的功率損耗;也可以作為工廠其他一些方面熱源(如浴室、散熱器等)。